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      相同的材料磁控濺射的速率和功率壓強有關系嗎?

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      管式爐一千度去除惰性氣體中微氧用什么試劑和石英玻璃管?

      磁控濺射

      磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場,利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

      相同的材料磁控濺射的速率主要和功率有關,和壓強等其他原因有關系嗎?

      和壓強有關系,般壓強大濺射較快,前提是電離度也提高了

      和壓強當然有關系,在保持濺射功率不變的情況下,一定范圍內,壓強高到達靶表面轟擊靶材的粒子密度就高,濺射速率就提高!另外,對于反應濺射好像情況會有些不同,這個看具體條件。

      材料研究用什么顯微鏡?

      金相顯微鏡,主要用于鑒別和分析金屬內部結構組織?http://www.cqzhbwcl.com/product/microscope/mm/

      什么叫反應濺射

      反應濺射就是所使用的靶材不是直接的目標產物,需要利用氣體跟濺射出來的靶材粒子發生化學反應,最后沉積在基底上!譬如很多陶瓷材料都是利用反應濺射得到的:在濺射氣體中摻入不同比例的氧氣,與靶材發生反應,最后沉積到基底上的是氧化物!

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      濺射速率和功率的關系是很大的,和壓強的關系也很大,壓強越大,濺射出來的粒子碰撞增加,沉積到薄膜的速度就變慢,成膜速度降低。另外,陽極和陰極間的距離對成膜速度也有影響。

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